2012 begann für uns die Zusammenarbeit mit Crocus Nano Electronics in Moskau.

Das 2011 von CROCUS Technology (F, USA) gegründete Joint Venture Unternehmen mit RUSNANO (RU), die CROCUS Nanoelektronik (CNE), errichtete in Moskau die weltweit erste Wafer-Fabrik für die Massenfertigung von modernen MLU-Geräten auf 300-mm-Wafer, auf der Basis von thermisch unterstützter Schalt ™ (TAS) MRAM-Technologie in 90-nm-und 65-nm-Knoten. 

Dähne Architekten war im Auftrag des Generalübernehmers der Fäth GmbH High-Purity Installation aus Klipphausen bei Dresden in Moskau tätig.

Die Fabrik wurde im ehemaligen Moskvich-Werk in Moskau errichtet. In die 600m lange, 140m breite und 20m hohe Fabrikhalle wurden Reinräume mit umfangreichen technischen Versorgungsanlagen gebaut. 

Unter der Leitung von Dähne Architekten wurde in Kooperation mit russischen Ingenieurbüros die Entwurfs-, Genehmigungs- und Ausführungsplanung und mit der Ingenieurgesellschaft Hochbau GbR aus Dresden die Tragwerksplanung für die FAB erarbeitet. Während der Bauphase waren Mitarbeiter vor Ort, die Ausführung zu überprüfen.

Mit der 2014 fertig gestellten Fabrik konnte Crocus Nano Electronics im Juni 2014 stolz verkünden, dass sie erfolgreich in Moskau die Zertifizierung seiner Reinräume nach den Anforderungen der ISO 14644-1 erhalten hat.

http://crocusnano.com/en/about-cne